2025-03-26 23:02:11
据介绍，这一刻蚀精度在氧化硅、氮化硅和多晶硅等薄膜的刻蚀工艺上，均得到了验证。该精度约等于硅原子直径2.5埃的十分之一，是人类头发丝平均直径100微米的500万分之一。在200片硅片的重复性测试中，氧化硅、氮化硅和多晶硅的测试晶圆，在左右两个反应台上各100片的平均刻蚀速度相差，各为每分钟0.9埃，1.5埃和1.0埃。两个反应台之间平均刻蚀速度的差别（≤0.09%），远小于一个反应台加工多片晶圆刻蚀速度的差别（≤0.9%）。▲中微公司ICP双反应台刻蚀机PrimoTwin-Star?中微公司透露，CCP的双台机PrimoD-RIE?和PrimoAD-RIE?的加工精度，两个反应台的刻蚀重复性和在生产线上的重复性也早已达到和PrimoTwin-Star?相同的水平。在两个反应台各轮流加工1000片的重复性测试中，两个反应台的平均刻蚀速度相差，只有每分钟９埃，小于1.0纳米。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。
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